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从“追赶”到“突围”：电子束光刻机突破背后的中国创新范式转型

8月，杭州城西科创大走廊的一间实验室里，中国首台自主研发的100kV电子束光刻机"羲之"正式投入应用测试。这台能以0.6纳米精度在头发丝截面雕刻整座城市地图的"纳米神笔"，不仅标志着中国在高端半导体装备领域实现历史性突破，更揭示了一个更深层的变革——中国半导体产业正从"引进消化吸收"的传统创新范式，转向"自主创新+差异化突围"的新路径。

2025-09-09 16:13:36
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